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Spacer Engineered FinFET Architectures
High-Performance Digital Circuit Applications
Brajesh Kumar (Indian Institute of Technology Roorkee, Uttareakhand, India) Kaushik, Pankaj Kumar (Indian Institute of Technology-Roorkee, India) Pal, Sudeb Dasgupta, et al.
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ca. 56,84 €
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Naturwissenschaften, Medizin, Informatik, Technik / Technik
Beschreibung
This book focusses on the spacer engineering aspects of novel MOS-based device–circuit co-design in sub-20nm technology node, its process complexity, variability, and reliability issues. It comprehensively explores the FinFET/tri-gate architectures with their circuit/SRAM suitability and tolerance to random statistical variations.
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